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※本セミナーはZoomを使ったWEBセミナーです。在宅、会社にいながらセミナーを受けられます。
『EUVリソグラフィーの基礎から最新技術開発の現状、課題と今後の半導体微細加工技術の展開【LIVE配信】』
～ EUVL技術開発のキーポイントとは？ ～ |
| 開催日時 |
2024年9月18日（水） 10:30～16:30 |
| 開催場所 |
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
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| 価格 |
非会員： 55,000円 （本体価格：50,000円）
会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
学生： 55,000円 （本体価格：50,000円）
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| 価格関連 |
会員の方あるいは申込時に会員登録される方は、受講料が1名55,000円（税込）から
・1名49,500円（税込）に割引になります。
・2名申込の場合は計55,000円（2人目無料）になります。両名の会員登録が必要です。
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| 備 考 |
・資料付（製本テキスト）※データの配布はありません。
※ご自宅への送付を希望の方は通信欄にご記入ください。
ご指定が無い場合はお申込み時の住所へ郵送いたします。
【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
１）Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
２）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
３）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。
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| 主 催 |
R&D支援センター |
※請求書、招待メール等は、R&D支援センター社より送付いたします。
| 講師 |
兵庫県公立大学法人 兵庫県立大学 名誉教授・特任教授
社会価値創造機構 理学博士 渡邊 健夫 氏 |
| 受講対象・レベル |
・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方、並びに学生：院生 |
| 必要な予備知識 |
・特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。 |
習得できる
知識 |
・EUVリソグラフィ技術の基礎、現状、課題。今後の展開
・また、今後の日本の半導体復興に向けた提言 |
| 趣旨 |
2019年よりEUVリソグラフィー（EUVL）は7 nm+世代の半導体量産技術として適用が開始された。この状況まで来るのに、EUVLの黎明期を含め約35年掛かって実現した。兵庫県立大学は国内大学が保有している中で最大のニュースバル放射光施設を有しており、これまでASET、SELETE,EUVA、EIDECの４つ国家プロジェクトの参画し、また、これまで数多くの国内外の企業との共同研究を通じてEUVL技術開発に貢献してきた。講演ではEUVL技術の黎明期からその技術の基礎について、また、現在の技術状況と課題、そして、今後の展開について解説する。さらに、日本の半導体復興に必要な項目について理解を深める。
黎明期のEUVL技術開発の紹介により、より深くEUVL技術開発のキーポイントの理解を深めていただきます。また、EUVL技術の現状および課題については、EUV露光装置（EUV光源を含み）に加えて、EUVレジスト、EUVマスク、EUVペリクルなどEUVL全般に亘って基盤技術について解説する。
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| プログラム |
1. はじめに
2. 半導体の動向
3. EUVリソグラフィーとは
4. EUVリソグラフィーの黎明期
5. EUVリソグラフィーの必要性
6. EUVLの技術課題
7. EUVL用露光機（EUV光源を含む）
8. EUVレジスト
1) 化学増幅系レジスト、非科学増幅系レジスト、金属レジスト、他
評価系
2) ホモジニティ、レジスト膜の層分離など
9. EUVマスク
1) 構造、多層膜、吸収体、High-kおよびLow-k材料
2) マスク評価系、など
10. EUVペリクル
1) 材料
2) 評価系
11. 日本の半導体の将来に向けて
12. まとめ
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