☆☆☆Web配信セミナー☆☆☆

『半導体デバイスの物理的洗浄手法』

〜半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法まで〜　

 S241003AW1

　☆☆☆本セミナーは、Zoomを使用して、行います。☆☆☆

開催日時：2024年10月3日（木）13:00-16:00
受 講 料：お1人様受講の場合　51,700円[税込]／1名
　　　　　1口でお申込の場合　66,000円[税込]／1口（3名まで受講可能）

　★本セミナーの受講にあたっての推奨環境は「Zoom」に依存しますので、ご自分の環境が対応しているか、
　お申込み前にZoomのテストミーティング（http://zoom.us/test）にアクセスできることをご確認下さい。

　★インターネット経由でのライブ中継ため、回線状態などにより、画像や音声が乱れる場合があります。
　講義の中断、さらには、再接続後の再開もありますが、予めご了承ください。

　★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

　清家善之（せいけよしゆき）　氏　

　　　愛知工業大学　工学部　電気学科　教授（博士（工学））

＜経歴、等＞	1990年4月　旭サナック株式会社入社…静電塗装機用高電圧発生回路の開発、半導体デバイス・FPD洗浄装置製造 　　　　　　　販売、電子デバイス用製膜装置の製造販売技術統括・品質保証室長 　2004年〜2006年　米国アリゾナ大学客員研究員…半導体デバイスの精密加工プロセス（CMP）の研究 　2007年9月　埼玉大学（学位取得） 　2016年4月　愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 　　2016年〜2021年　旭サナックに向けて品質管理勉強会講師（兼職） 　　2022年　半導体洗浄に関するweb講習 講師 　2022年8月　la quaLab合同会社 設立（愛知工業大学 教員との兼職）．
＜研究＞	半導体デバイスや液晶パネル等の洗浄装置の開発設計に従事、有機デバイス（有機系太陽電池）の製作プロセスに関する研究に従事
＜学協会＞	応用物理学会、電気学会、電子情報通信学会、静電気学会、精密工学会、The Electrochemical Society、ECS

　

近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。 　セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学、から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3〜4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。

　

　

　1　半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向

　2　半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
　　2.1　半導体デバイスの基礎
　　2.2　半導体製造プロセス
　　2.3　半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
　　2.4　化学的洗浄と物理的洗浄

　3　水流を利用した洗浄について
　　3.1　流体力学の基礎
　　3.2　高圧スプレー洗浄
　　3.3　二流体スプレー洗浄
　　3.4　超音波洗浄スプレー洗浄
　　3.5　ブラシ洗浄
　　3.6　次世代の物理的洗浄技術

　4　スプレー洗浄時の静電気障害
　　4.1　静電気の基礎
　　4.2　半導体デバイスの洗浄の静電気障害
　　4.3　スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム

　5　最先端の洗浄方法（表面処理）
　　＊学会等からの情報