1口(1社3名まで受講可能)でのお申込は、

 受講料 66,000円(税込)/1口 が格安となります。


☆☆☆Web配信セミナー☆☆☆

『フォトレジスト材料の基本的分子設計から、
 最先端レジスト材料の合成法と評価法』



 S241112AW



 ☆☆☆本セミナーは、Zoomを使用して、行います。☆☆☆


開催日時:2024年11月12日(火)10:30-16:30
受 講 料:1人様受講の場合 53,900円[税込]/1名
     
1口でお申込の場合 66,000円[税込]/1口(3名まで受講可能)


 ★本セミナーの受講にあたっての推奨環境は「Zoom」に依存しますので、ご自分の環境が対応しているか、
 お申込み前にZoomのテストミーティング(http://zoom.us/test)にアクセスできることをご確認下さい。

 ★インターネット経由でのライブ中継ため、回線状態などにより、画像や音声が乱れる場合があります。
 講義の中断、さらには、再接続後の再開もありますが、予めご了承ください。

 ★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

 講 師

 

 工藤宏人(くどうひろと) 氏 

   関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授(博士(工学))

 <略歴、等>  2000年3月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質電子化学専攻 博士後期課程 修了 博士(工学)
 「Synthesis and Reactions of Novel Polymers Derived from Cysteine」
 2000年4月 山形大学大学院 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 講師(中核的研究機関研究員)
 2001年4月 神奈川大学 工学部 応用化学科 助手
 2007年4月 神奈川大学 工学部 応用化学科 助教
 2009年4月 神奈川大学 工学部 応用化学科 准教授
 2012年4月 関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 准教授
 2016年4月 関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授
  現在に至る

 ・2007年 高分子学会「日立化成賞」“環状オリゴマーを基盤とした光機能性材料(レジスト、屈折率変換材料)の開発”(平成19年)
 ・2019年合成樹脂工業協会・学術賞「高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の研究開発」(平成24年)
 ・フォトポリマー学会 理事
 ・大阪ニュークリアサイエンス協会 参与

 セミナーの概要

 

 フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、それぞれに対応したレジスト材料が開発されてきた。現在、極端紫外線(EUV)露光システムが実用段階として運用されようとしている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料が開発されていない。
 本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。

 講義項目

 

 1 レジスト材料
  1.1 原理
  1.2 合成例
  1.3 最新の化学増幅型


 2 ポジ型レジスト材料
  2.1 材料的な特性
  2.2 主な応用・用途


 3 ネガ型レジスト材料
  3.1 材料的な特性
  3.2 主な応用・用途

 4 高分子レジスト材料と低分子レジスト
  4.1 材料的な特性
  4.2 主な応用・用途

 5 EUV用レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
  5.1 レジスト材料の評価項目,評価手法について
  5.2 レジスト材料の評価方法と開発例

 6 最新型EUV用レジスト材料
  6.1 メタルレジスト
  6.2 化学増幅型レジストと非化学増幅型レジスト材料



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