トリケップス文献調査用資料　CD-WS121

光学薄膜技術

第1章　光学薄膜の領域とその動向
第2章　光学薄膜設計
　1　光学薄膜の性質
　　1.1　光学薄膜と設計のための計算法
　　1.2　四端子行列法と多層膜の性質
　2　光学薄膜の性質と計算法
　　2.1　図式解法
　　2.2　計算のための多層膜の性質
　　2.3　電界強度の計算
　3　偏光素子・位相板
　　3.1　偏光ビームスプリッタ設計
　4　光学薄膜CAD
　　4.1　CADのための条件
　　4.2　CADに取り入れられるプロセス条件
　　4.3　CAD設計システム
　　4.4　初期設計
　　4.5　設計上でのシミュレーション（高耐力化膜構成）
　　4.6　吸収層を含む多層膜の組み立て
　　4.7　設計CADのプログラム化
　　4.8　CAD設計の実際
　　4.9　最適化
　5　設計データ例
　　5.1　多層膜設計例
　　5.2　周期的多層膜の性質を利用した例
　　5.3　金属膜を含む多層膜の例
　　5.4　その他
　　5.5　反射防止膜の広帯域化の例
第3章　光学薄膜の基礎となる計測技術
　第1節　薄膜の光学的測定
　　1　分光反射、透過率による測定
　　2　偏光解析法
　　3　不均質膜の測定
　　4　膜厚制御
　　　4.1　反射率および透過率測定による膜厚制御
　　　4.2　偏光解析法
　　5　蒸着速度の制御
　第2節　薄膜の構造と特性評価技術
　　1　薄膜の構造
　　　1.1　電子顕微鏡による断面構造
　　　1.2　膜構造モデル
　　　1.3　充填率の算定
　　2　充填率測定法
　　　2.1　水晶振動子法
　　　2.2　直視式（in-situ）分光測定法
　　　2.3　特性評価
　　3　屈折率の動的変化
　　4　充填率による薄膜挙動の解析例
　　　4.1　狭帯域フィルタの経時変化
　　　4.2　ZrO2不均質膜の挙動の解析
　　　4.3　固体薄膜ECD（エレクトロクロミックデバイス）での充填率
　　5　その他の薄膜分析法
　　　5.1　X線回析と電子線回析
　　　5.2　赤外分光測定法
　　　5.3　表面分析
　　　5.4　走査トンネル顕微鏡およびヘテロダイン式表面粗さ計
　　6　内部表面積と細孔分布測定法
　　　6.1　吸着曲線
　　　6.2　細孔分布
　　　6.3　内部表面積
　第3節　薄膜の応力と耐久性
　　1　応力と薄膜構造
　　2　応力のin-situ測定
　　3　付着力と耐久性
第4章　光学薄膜基板、洗浄および薄膜材料
　第1節　光学基板の洗浄
　　1　はじめに
　　2　有機溶剤による手拭き洗浄
　　3　超音波洗浄
　　　3.1　超音波振動子
　　　3.2　空洞現象（キャビテーション）
　　　3.3　加速度
　　　3.4　共振水位
　　　3.5　実際の超音波洗浄機の例
　　4　イオン衝撃
　　5　洗浄の評価法
　　　5.1　呼気像
　　　5.2　静摩擦係数
　　　5.3　接触角
　第2節　蒸着パタメータと薄膜特性
　　1　蒸着温度
　　2　蒸着速度
　　3　真空度
　　4　経時変化
　　　4.1　充填密度（パッキングデェンシティ）と経時変化
　　　4.2　イオンアシスト蒸着
　第3節　蒸着材料の特性
　　1　TiO2について
　　　1.1　TiO2薄膜の作成方法
　　　1.2　TiO2薄膜の性質
　　2　ZrO2、TiO2混合物について
　　3　混合物質による中間屈折率膜
　　4　プラスチック基板用蒸着材料
　　　4.1　CeO2薄膜の性質
　　　4.2　SiO薄膜
　　　4.3　蒸着時の基板温度上昇
　　5　紫外用蒸着材料
　　6　蒸着材料としてのフッ化物
第5章　光学薄膜形成技術
　第1節　真空蒸着法
　　1　はじめに
　　2　蒸着理論
　　　2.1　加熱・蒸発
　　　2.2　飛翔過程
　　　2.3　膜形成・成長過程
　　3　真空蒸着装置
　　　3.1　装置の歴史と概略構成
　　　3.2　真空排気系
　　　3.3　蒸発源
　　　3.4　膜厚制御法
　　4　実際の真空蒸着による光学多層膜の作成例
　　　4.1　紫外用マルチコート
　　　4.2　赤外用マルチコート
　第2節　プラズマ蒸着法・スパッタ法
　　1　プラズマの光学薄膜技術への応用概説
　　2　プラズマ蒸着法
　　　2.1　イオンプレーティング法
　　　2.2　イオンビームアシステッドディポジション法
　　　2.3　スパッタリング法
　　3　イオンビームアシステッドディポジション（IAD）の測定データ
　第3節　薄膜形成特論
　　Ⅰ　プラスチック基板への薄膜形成技術
　　　1　プラスチック光学部品コーティング技術の問題点
　　　2　プラスチックコーティングの基本的な考え
　　　3　薄膜の基本設計例
　　　4　MgF2の低温コーティング
　　Ⅱ　溶液コーティングによる反射防止膜
　　　1　はじめに
　　　2　真空薄膜形成
　　　3　反射防止の原理
　　　4　溶液コーティングについて
　　　　4.1　高屈折率ハードコート
　　　　4.2　低屈折率ハードコート
　　　5　応用例－ルミナス・HI・Sコートレンズ
　　　　5.1　ルミナス・HI・Sコートレンズの構造と技術
　　　　5.2　ルミナス・HI・Sコートレンズの特長
　　　6　今後の応用展開
　　Ⅲ　イオンプレーティングによる光学薄膜作製技術
　　　1　はじめに
　　　2　RLVIP装置およびその原理
　　　3　実験結果および考察
　　　　3.1　膜の構造
　　　　3.2　機械的特性
　　　　3.3　光学的特性1（単層膜）
　　　　3.4　光学的特性2（多層膜）
　　　4　おわりに
第6章　光学薄膜の安定度と信頼性試験
　1　光学薄膜信頼性テスト
　2　MIL規格信頼性テスト
　　2.1　付着力テスト（MIL M-13508C）
　　2.2　膜強度テスト（MIL M-13508C、MIL C-675C）
　　2.3　温度テスト（MIL M-13508C）　
　　2.4　恒温恒湿テスト（MIL C-675C、MIL M-13508C）
　　2.5　溶解テスト（MIL C-675C、MIL M-13508C）
第7章　光学薄膜技術特論（軟X線光学素子いおける多層膜反射ミラー）