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『フレキシブルOLEDの最新技術動向』
 The Latest Technology Trend of Flexible OLED
発 刊  2017年10月31日
定 価  100,000円(消費税別)
 購入 
体 裁  A4判 並製 161頁
編集・発行
ISBN
 株式会社シーエムシー・リサーチ
 978-4-904482-39-1
 
本書の特徴  ・ ディスプレイ業界の第一人者による基礎から最新技術までの解説!
 ・ OLEDの構造、動作原理、駆動方式など基礎技術をわかりやすく解説!
 ・ TFT駆動OLED(AMOLED)のバックプレーン(TFT)技術を解説!
 ・ OLED固有の色塗分け、封止、レーザリフトオフ技術をカラーで解説!
 ・ OLED用部材に対する構成、原理、特性の概要をわかりやすく解説!
 

著 者  鵜飼育弘 氏
  Ukai Display Device Institute代表、技術コンサルタント(工学博士)

 【経歴】
 1968年 大阪大学卒業、同年ホシデン㈱入社
 1979年から主にトップゲート型a-SiTFT-LCDのR&Dおよび事業化に従事
 1989年 AppleMacintoshpotableに世界で初めて10型モノクロ反射型のa-SiTFTLCDが採用された。
 1994年 世界で初めて民間航空機(ボーイング777)コックピット用ディスプレイとしてTFT-LCDが採用された。スペースシャトルのコックピット用ディスプレイとしても採用された。
 1997年 DuPontとa-SiTFTとSeによる直接変換型X線ディテクタ(FPD:FlatPanelDetectorを開発実用化
 1999年 東京工業大学から工学博士号授与される。同年3月退職(退職時開発技術研究所参与)
 1999年 ソニー㈱入社 STLCD(ソニーと豊田自動織機の合弁)技術部長としてLTPSTFT-LCDの量産立ち上げに従事、世界で初めてガラス基板上にLTPSTFTによるシステム・オン・パネルの量産
 2002年~ モバイルディスプレイ事業本部担当部長及びコーポレートR&Dディスプレイデバイス開発本部 Chief Distinguished Engineerとして、技術戦略・技術企画坦当。In-Cell化技術を学業界に提唱し事業化を推進
 2008年3月:ソニー㈱退職
 2008年4月~ 現職
 【活動】
Journal of Display Technology (A Joint IEEE/OSA Publication) Co-Editor 歴任
九州大学、大阪市立大学 大学院非常勤講師歴任
応用物理学会終身会員 Society for Information Display Senior Member「薄膜トランジスタ技術のすべて」「実践ディスプレイ工学」など著書多数
 著者の言葉  フレキシブルOLEDの最新技術動向」と題した本書は次の章から構成される。
  第1章 AMOLED概論
  第2章 フレキシブルディスプレイ
  第3章 フレキシブルAMOLED製造(バックプレーン技術)
  第4章 色塗分け技術
  第5章 封止技術
  第6章 レーザリフトオフ(LLO)ファインセルカット
  第7章 材料・部品
  第8章 Appleのビジネス戦略
 本書の目的は、大きく分けて以下の4点である。
  (1)OLEDの構造、動作原理、駆動方式など基礎技術の取得
  (2)TFT駆動OLED(AMOLED)のバックプレーン(TFT)技術の取得
  (3)OLED固有の色塗分け、封止、レーザリフトオフ技術の取得
  (4)OLED用部材に対する構成、原理、特性の概要取得
 したがって、この書籍1冊で基礎から最新技術まで取得出来る構成になっている。ビジネスの観点から、Appleのビジネス戦略についても触れた。
 本書が読者諸賢にいささかでも役立つなら著者の喜びとするところであり、同時に本書の内容について、諸賢各位に御叱責をお願いする次第である。

内容項目
/
詳細項目
第1章 AMOLED概論
 1.1 技術沿革
 1.2 OLEDの特徴、要求事項,技術的課題
 1.3 OLEDの動作原理と発光材料
 1.4 駆動方式とバックプレーン技術
参考文献
第2章 フレキシブルディスプレイ
 2.1 フレキシブル基板材料
 2.2 プロセス適合性
 2.3 ディスプレイの種類とTFTへの要求性能
 2.4 フレキシブルディスプレイ用透明導電膜
 2.5 TFT材料とフレキシブル性
 2.6 ディスプレイの進化とフレキシブルディスプレイ
 2.7 フレキシブルディスプレイの実用化・開発状況
第3章 フレキシブルAMOLED製造(バックプレーン技術) 
 3.1 エキシマレーザアニール(ELA:Excimer Laser Annealing)装置
 3.2 局所レーザアニール装置(AEGIS-ANL) 
 3.3 イオン注入装置
 3.4 ウェットケミカルレーザ加工
 3.5 露光装置
第4章 色塗分け技術
 4.1 蒸着法によるOLED工程
 4.2 キャノントッキのOLED量産製造装置
 4.3 OLED蒸着用マスク
 4.4 ファインメタルマスク(FMM:Fine Metal Mask)とレーザマスク加工装置
 4.5 フォトリソグラフィによる色塗分け技術
参考文献
第5章 封止技術
 5.1 バリア膜、封止材料の要求事項
 5.2 実用化、開発事例
 5.3 Kateevaの薄膜封止(TFE:Thin Film Encapsulation)技術と装置
 5.4 原子層堆積装置(Atomic Layer Deposition:ALD)によるバリア膜形成
 5.5 まとめ
参考文献
第6章 レーザリフトオフ(LLO) ファインセルカット
 6.1 レーザリフトオフ(LLO:Laser Lift Off) 
 6.2 ファインセルカット
 6.3 表面活性化接合によるガラスとポリイミド膜の接合と剥離
 6.4 AMOLEDの用途と設備
第7章 材料・部品
 7.1 Merckのインクジェット印刷OLEDディスプレイ
 7.2 住友化学の印刷用高性能OLED材料
 7.3 電極材料
 7.4 光学フィルム
参考文献
第8章 Appleのビジネス戦略
 8.1 AppleiPhoneのコスト構造
 8.2 Appleのビジネス戦略
 8.3 まとめ
おわりに
日本のエレクトロニクスメーカの経営戦略 知財戦略
コモディティ化
Philipsの経営戦略
プラットフォーム戦略の構築
若い研究者、技術者へのメッセージ